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      薄膜測量

      薄膜測量

      薄膜測量系統是基于白光干涉的原理來確定光學薄膜的厚度。白光干涉圖樣通過數學函數被計算出薄膜厚度。對于單層膜來說,如果已知薄膜介質的n和k值就可以計算出它的物理厚度。 AvaSoft-Thinfilm應用軟件內包含有一個大部分常用材料和膜層n和k值的內置數據庫。 AvaSoft-Thinfilm系統可以測量的膜層厚度從10 nm到50 um,分辨率可達1 nm。 薄膜測量應用于半導體晶片生產工業,此時需要監控等離子刻蝕和沉積加工過程。還可以用于其它需要測量在金屬和玻璃基底上鍍制透明膜層的領域。其他領域中,金屬表面的透明涂層和玻璃襯底也需要嚴格測量。 AvaSoft-Thinfilm應用軟件能夠實時監控膜層厚度,并且可以與其他AvaSoft應用軟件如XLS輸出到Excel軟件和過程監控軟件一起使用。 薄膜測量的典型裝置如圖所示。


      薄膜測量常用配置:

      光譜儀AvaSpec-2048光譜儀,UA光柵(200-1100 nm),DUV鍍膜,DCL-UV/VIS靈敏度增強透鏡,100μm狹縫,OSC-UA消二階衍射效應鍍膜
      測量膜厚范圍10 nm - 50 μm,1 nm分辨率
      軟件AvaSoft-Thinfilm應用軟件
      光源AvaLight-DHc緊湊型氘-鹵素光源
      光纖1根FCR-7UV200-2-ME反射光纖探頭
      附件THINFILM-STAGE支架,用于固定反射光纖探頭 Thinfilm-standard Tile with 3 calibrated different thickness layers of SiO2


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